(1)激光、光電雕刻技術; (2)先進的制版技術; (3)原子印章制作技術; (4)翻轉印章制作技術。
(1)鏡下觀察; (2)同倍放大; (3)細節(jié)比較; (4)客觀全面; (5)綜合評斷。