97免费在线观看视频,亚洲综合自拍网,黄色毛片免费观看,热久久综合网,免费看日产一区二区三区狠狠操av,久久久涩涩涩,在线精品免费视频,人人插天天干,久久91精品国产91久久

<strong id="yurf9"><li id="yurf9"></li></strong>

<abbr id="yurf9"><output id="yurf9"></output></abbr>

問答題

【簡答題】簡述光刻工藝的8個基本步驟。

答案：

①氣相成底膜；
②旋轉(zhuǎn)涂膠；
③軟烘；
④對準(zhǔn)和曝光；
⑤曝光后烘培（PEB）；
⑥顯影；
⑦堅膜烘培；
⑧顯影檢查。

你可能感興趣的試題

【簡答題】簡述部分離子注入工藝的作用。

答案： ①深埋層注入：高能（大于200KEV）離子注入，深埋層的作用：減小襯底橫向寄生電阻，控制CMOS的閂鎖效應(yīng)。
...

【簡答題】簡述在先進的CMOS工藝中，離子注入的應(yīng)用。

答案： ①深埋層注入；
②倒摻雜阱注入；
③穿通阻擋層注入；
④閾值電壓調(diào)整注入；
⑤輕...