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問答題
【簡答題】
說明擴(kuò)散雜質(zhì)的余誤差函數(shù)分布特點(diǎn)(恒定表面源擴(kuò)散屬于此分布)
答案:
①雜質(zhì)表面濃度由該種雜質(zhì)在擴(kuò)散溫度下的固溶度所決定。當(dāng)擴(kuò)散溫度不變時(shí),表面雜質(zhì)濃度維持不變;
②擴(kuò)散時(shí)間越長,...
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【簡答題】雜質(zhì)在硅中有哪些擴(kuò)散機(jī)制?
答案:
①間隙式擴(kuò)散;
②替位式擴(kuò)散。
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【簡答題】簡述熱生長氧化層與沉積氧化層的區(qū)別。
答案:
①結(jié)構(gòu)及質(zhì)量:熱生長的比沉積的結(jié)構(gòu)致密,質(zhì)量好。
②成膜溫度:熱生長的比沉積的溫度高??稍?00℃獲得沉積氧化...
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