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熱氧化生長的SiO
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都是四面體結(jié)構(gòu),有橋鍵氧、非橋鍵氧,橋鍵氧越多結(jié)構(gòu)越致密,SiO
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中有離子鍵成份,氧空位表現(xiàn)為帶正電。
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判斷題
熱氧化過程中是硅向二氧化硅外表面運(yùn)動,在二氧化硅表面與氧化劑反應(yīng)生成二氧化硅。
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判斷題
當(dāng)位錯線與滑移矢量垂直時,這樣的位錯稱為刃位錯,如果位錯線與滑移矢量平行,稱為螺位錯。
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