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填空題

高純硅制備過程為（）→（）→（）→（）→（）。

答案：氧化硅；粗硅；低純四氯化硅；高純四氯化硅；高純硅

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晶體中的缺陷包括（）、（）、（）、（）等四種。

答案：點缺陷；線缺陷；面缺陷；體缺陷

集成電路制作工藝大體上可以分成三類，包括（）、（）、（）。

答案：圖形轉(zhuǎn)化技術(shù)；薄膜制備技術(shù)；摻雜技術(shù)