97免费在线观看视频,亚洲综合自拍网,黄色毛片免费观看,热久久综合网,免费看日产一区二区三区狠狠操av,久久久涩涩涩,在线精品免费视频,人人插天天干,久久91精品国产91久久

^{<dd id="samkm"></dd>}

<dl id="samkm"><bdo id="samkm"></bdo></dl><delect id="samkm"><center id="samkm"></center></delect>

問答題

【簡答題】為什么晶體晶格離子注入工藝后需要高溫退火？使用RTA退火有什么優(yōu)點？

答案：消除晶格損傷，恢復載流子壽命以及遷移率，激活一定比列的摻雜原子。
降低了退火溫度或者說減少了退火時間，減少了退...

你可能感興趣的試題

【簡答題】離子注入后的RTA流程

答案：

1、晶圓進入
2、溫度急升
3、溫度趨穩(wěn)
4、退火
5、晶圓冷卻
6、晶圓退出

【簡答題】氮化硅在IC芯片上的用途

答案： 1、硅局部氧化形成過程中，作為阻擋氧氣擴散的遮蔽層。
2、作為化學拋光的遮擋層。
3、用于形成側壁空...