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問答題

【簡答題】例出光刻的8個(gè)步驟，并對(duì)每一步做出簡要解釋。

答案：第一步：氣相成底膜處理，其目的是增強(qiáng)硅片和光刻膠之間的粘附性。
第二步：旋轉(zhuǎn)涂膠，將硅片被固定在載片臺(tái)上，一定數(shù)...

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【簡答題】解釋什么是暗場掩模板？

答案：暗場掩膜版是指一個(gè)掩膜版，它的石英版上大部分被鉻覆蓋，并且不透光。

【簡答題】解釋正性光刻和負(fù)性光刻的區(qū)別？為什么正膠是普遍使用的光刻膠？最常用的正膠是指哪些膠？

答案：正性光刻把與掩膜版上相同的圖形復(fù)制到硅片上，負(fù)性光刻把與掩膜版上圖形相反的圖形復(fù)制到硅片表面，這兩種基本工藝的主要區(qū)別在...

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